在半導(dǎo)體晶片的制造過程中，如果遭到塵埃、金屬等污染，很容易造成晶片內(nèi)電路功能的損壞，形成短路或斷路，半導(dǎo)體晶片的清洗是晶片的制造過程中重復(fù)最多的工序，清洗效果的好壞直接影響到芯片的電路特性和成品質(zhì)量。清洗液和各種化學(xué)品使用不當(dāng)會(huì)造成環(huán)境的嚴(yán)重污染，臭氧發(fā)生器在半導(dǎo)體清洗中具有廣泛應(yīng)用，主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：

? 去除有機(jī)物：臭氧具有強(qiáng)氧化性，能將晶圓表面的光刻膠殘留、有機(jī)物等氧化分解為二氧化碳和水，從而有效去除。

? 去除金屬雜質(zhì)：臭氧可以與一些金屬雜質(zhì)發(fā)生氧化反應(yīng)，使其形成易于去除的氧化物。在HCl中應(yīng)用臭氧時(shí)，可在低溫下有效去除硅表面的金屬雜質(zhì)，且表面粗糙度低、反應(yīng)時(shí)間短。

? 去除顆粒污染物：通常會(huì)用稀釋的氫氟酸（DHF）蝕刻顆粒下的氧化物，避免顆粒沉積，以去除二氧化硅上的顆粒。臭氧作為氧化劑可以產(chǎn)生一層可以被HF蝕刻的新層，從而幫助去除顆粒。如臭氧水和稀釋氟化氫的單晶片旋轉(zhuǎn)清洗工藝，可高效去除各種顆粒污染物。

? 消毒：在半導(dǎo)體領(lǐng)域，臭氧被用于消毒水凈化系統(tǒng)，防止晶圓受到微生物污染。

匯威環(huán)保是專業(yè)的臭氧設(shè)備制造廠家，臭氧專用系統(tǒng)為自主研發(fā)，利用了公司多項(xiàng)發(fā)明專利。與很多半導(dǎo)體企業(yè)（如中科院微電子所等）有多年的合作經(jīng)驗(yàn)，經(jīng)過了市場(chǎng)的驗(yàn)證，獲得了客戶的信賴。匯威臭氧發(fā)生器能獲得眾多半導(dǎo)體企業(yè)的青睞，主要是匯威的臭氧發(fā)生器有以下特點(diǎn)：


1、濃度高；半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)臭氧濃度要求很高，臭氧水的氧化性隨臭氧濃度的增加而增加，低濃度的臭氧濃度不能達(dá)到清洗金屬及化合物的作用，匯威臭氧發(fā)生器國(guó)際一流的采用雙微間隙設(shè)計(jì)，臭氧產(chǎn)出濃度150mg/L,也可根據(jù)客戶需要設(shè)置至180-200mg/l，遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過業(yè)內(nèi)水平。

2、精確度高；半導(dǎo)體行業(yè)清洗對(duì)臭氧的產(chǎn)出精度要求很高，匯威臭氧發(fā)生器電源設(shè)計(jì)采用自主研發(fā)的高頻逆變電源，可實(shí)現(xiàn)無(wú)極調(diào)整，調(diào)整的精確度1%。

3、一致性、穩(wěn)定性；半導(dǎo)體行業(yè)的清洗要求臭氧發(fā)生器設(shè)備輸出是穩(wěn)定的一致的，匯威臭氧發(fā)生器電源系統(tǒng)可自動(dòng)調(diào)整頻率諧振點(diǎn)，實(shí)現(xiàn)臭氧系統(tǒng)的最優(yōu)化穩(wěn)定的輸出，保證了臭氧產(chǎn)出的連續(xù)穩(wěn)定。